特點(diǎn)：

1、可更換清洗吸盤，可使用4-12英寸的清洗吸盤；

2、操作程序可按作業(yè)需求編寫調(diào)整，設(shè)備運(yùn)行流程、清洗時(shí)間及各項(xiàng)參數(shù)可自行編制；

3、設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)及參數(shù)在線實(shí)時(shí)監(jiān)控，自動(dòng)門配有安全光柵，保證操作安全；

4、采用真空吸附式清洗盤，晶元夾具的取放更安全、方便；

5、擺臂式清洗，清洗范圍可編制，適用范圍廣、無清洗盲區(qū)、無二次污染，清洗效果更佳；

6、設(shè)備清洗室全密封，且配有自動(dòng)擋水圈，有效防止二次污染；

7、高速離心設(shè)計(jì)，轉(zhuǎn)速可調(diào)節(jié)100-2000R/Min；

8、配備獨(dú)特的靜電消除裝置，輔助清洗達(dá)到最佳效果，可選擇使用氮?dú)猓?/p>

9、設(shè)備配有大面積透明觀察窗；

10、縮減寬度的省空間設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)緊湊，占用空間??；

11、整機(jī)鏡面不銹鋼機(jī)身，能耐酸堿，對工作環(huán)境無污染，鏡面機(jī)殼易于保養(yǎng)。

規(guī)格參數(shù)：

清洗機(jī)工藝

放入物料---一鍵清洗開始，安全門自動(dòng)關(guān)閉---二流體清洗---離心脫水（去靜電離子風(fēng)與加熱腔體輔助干燥)

---清洗完畢---報(bào)警提示---玻璃門自動(dòng)打開。

采用高速離心設(shè)計(jì)，主要使用于4-12英寸的硅晶圓片的精密清洗；

搭配二流體清洗、靜電消除/氮?dú)狻?高速離心等裝置，使被清洗件達(dá)到干燥、潔凈的目的。